ASML：High NA EUV 累计曝光超 135 万片晶圆，10 台客户系统投运

新闻摘要

ASML 在 SEMICON Taiwan 2026 上宣布，其 High NA EUV 光刻机已累计曝光超过 135 万片晶圆，已有 4 个客户的 10 台设备投入运行，另有 3 台在发货安装中。首代量产型 EXE:5200B 已达到每小时 135 片晶圆的产能，机队可用率目前为 84%，预计年底达 90%。